50g真空磁悬浮熔炼炉
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- 发布日期：2021-04-16
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- 信息介绍
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一、 50g真空磁悬浮熔炼炉设备简介
真空磁悬浮熔炼方法，是近些年来飞速发展的一种熔炼方法，主要用来制取高熔点、高纯度和极活泼的金属，在冶金和高尖端材料制备等许多重要领域得到了广泛的应用，显示出良好的应用前景。
二、 50g真空磁悬浮熔炼炉设备原理真空磁悬浮熔炼方法，是通过高频或中频交变磁场，在金属熔炼中形成与重力相抵消的电磁力，使熔体悬浮，与坩埚内壁脱离方法是一项集电磁学、流体学、热力学、力学、物理化学及冶金等多学科于一体的综合冶金技术。因此受到了人们广泛的观注，在许多材料制备领域得到应用。由于磁悬浮的作用，使熔体与坩埚内壁脱离接触，这样熔体与坩埚壁之间的散热行为由传导散热改为辐射散热，从而导致散热速度聚减，使熔体可达到很高的温度（1700～2500℃），宜于熔炼高熔点金属或其合金。更重要的方面是：熔炼时炉料的悬浮将有效防止炉料与坩埚壁接触所带来的污染。宜于获得高纯度或极活泼的金属。
三、 50g真空磁悬浮熔炼炉主要技术参数
1、额定功率：≤30Kw
2、容量：水冷铜坩埚，30-50g（以钢液计算）
3、输入电源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz
4、冷态极限真空度：6.7×10E-4Pa
5、熔炼温度≥2200℃（根据材料熔点不同熔炼温度不同）
6、可充保护气≤0.03Mpa
7、控制方式：操作模拟屏+PLC,配置手动操作按钮
8、操作模式：主要阀门气动、电动
